Información Básica.
Descripción de Producto
Materiales de recubrimiento de película fina 99,9% Tantalum(ta) objetivo de espumación
XK es un productor profesional de objetivos de espumación de Tantalum con varias formas y pureza, que se aplican principalmente a la industria semiconductora y microelectrónica. Gracias a los procesos de formación especiales que utilizamos, nuestros objetivos de espumación de Tantalum poseen una mayor densidad, un menor tamaño medio de partículas, así como una alta pureza, por lo que puede beneficiarse de un proceso más rápido debido a las mayores velocidades de espumación y obtener capas de Tantalum muy homogéneas.
| Nombre del producto | Objetivo de esputo de tantalum(ta) |
| Pureza disponible (%) | 99,9(3N), 99,95(3N5),99,99(4N) |
| Forma | Planar, giratorio |
| Color | Gris |
| Tamaño | como su petición |
| Punto de fusión() | 2996 |
| Densidad(g/cm³) | 16,654 |
| Punto de ebullición() | 5425 |
| Tecnología | Fusión al vacío, proceso termomecánico patentado y trabajo de máquina |
| Aplicación | Semiconductores, microelectrónica, etc. |
