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- Embalaje y envío
Información Básica.
Descripción de Producto
Parámetros principales del sistema
l Grado de vacío final: ≤6×10-5Pa (obtenido en 12 horas en condiciones de limpieza + horneado y desgasificación);
l tiempo de vacío: En 30 minutos, ≤6×10-4PA;
l temperatura de calentamiento del sustrato: ≤600ºC;
l Tamaño del sustrato: ≤Φ3inch oblea;
l número de gradillas de sustrato: 1;
l Tamaño objetivo: 50mm de diámetro (opcional 3inch);
l número de objetivos: 1 o 2;
l Tamaño de la cámara de vacío: DN250*340 (puede ajustarse adecuadamente según las condiciones reales);
l distancia de movimiento de la gradilla de sustrato: ≤50mm (dirección axial);
l ángulo entre el eje objetivo y el eje de rotación del sustrato: Co-esputtering;
l sistema de gas: Toma de aire de 2 vías, 1 de las cuales se utilizan para el escape;
| Elemento | Especificaciones y Descripción | |
| Cámara de vacío | Cámara de vacío de pulverización | DN220*320, el tamaño puede ajustarse de acuerdo con los requisitos de diseño, la cubierta superior puede abrirse y la puerta puede abrirse |
| Válvula mariposa de vacío ultra alta | DN100, control eléctrico, función de presión constante automática opcional | |
| Bomba molecular | Bomba molecular 110L/S o 150L/S. | |
| Bomba mecánica | La bomba de paletas rotativas DVR16 también sirve como bomba de etapa preliminar y pre-bomba | |
| Válvula deflectora | DN25 válvula electromagnética deflectora, conexión-desconexión de la tubería de la bomba previa | |
| Válvula de parada | 6mm válvula de parada eléctrica de interfaz de casquillo doble | |
| Dispositivo de iluminación y de cocción | Opcional | |
| Varios tipos de bridas y ventanas de observación | DN16, 35, 63, 100, 150 | |
| Tuberías de acero inoxidable, juntas de tuberías | Varias especificaciones de precisión de tubos de acero inoxidable, fuelles, juntas de tuberías | |
| Medición de vacío y admisión de aire | Vacuómetro compuesto digital | 5227 vacuómetro compuesto o indicador de rango completo importado opcional |
| Calibre metálico desnudo | ZJ27, ZJ52T interfaz de metal | |
| Controlador de flujo de masa | 7B-D07 controlador de flujo de masa, rango 100sccm | |
| Tubos y conectores | Cámara de gas mixto | |
| Válvula de parada | 6mm válvula de parada eléctrica de interfaz de casquillo doble | |
| Interfaces de admisión y otros controles | Válvula reguladora de presión, control eléctrico, retroalimentación disponible | |
| Rack de muestras | Bastidor de sustrato giratorio | Rotación de sustrato, elevación de bastidor de sustrato |
| Dispositivo de elevación | Elevación ajuste manual | |
| Dispositivo de calentamiento de sustrato de pulverización | ≤600ºC dispositivo de calefacción opcional | |
| Alimentación de control de temperatura | Japón Shimaden control de temperatura, PID control de temperatura | |
| Sistema de pulverización | Objetivo de pulverización de control magnético | Objetivo de pulverización integrado, opcional de 2 o 3 pulgadas, con deflector |
| Suministro de energía de pulverización | 500W DC o RF opcionales | |
| Bastidor de equipo | Diseño integrado | |
| Sistema de agua y gas | Incluye máquina de agua de refrigeración | |
| Sistema de control | Control automático de pantalla táctil opcional manual estándar | |
l Grado de vacío final: ≤5×10-5Pa (obtenido en 12 horas en condiciones de limpieza + horneado y desgasificación);
l tiempo de vacío: En 40 minutos, ≤5×10-4PA;
l temperatura de calentamiento del sustrato: ≤600ºC (calentamiento de la lámpara de tungsteno de yodo);
l Tamaño del sustrato: ≤Φ3inch oblea redonda;
l Tamaño objetivo: 2 pulgadas o 3 pulgadas;
l número de objetivos: 3;
l Tamaño de la cámara de vacío: 400×400×H380~450 (puede ajustarse adecuadamente según las condiciones reales);
l distancia de movimiento de la gradilla de sustrato: ≤50mm (dirección axial);
l ángulo entre el eje objetivo y el eje de rotación del sustrato: Co-esputtering;
l sistema de gas: Toma de aire de 4 vías, 1 de las cuales son para el escape;
Los parámetros básicos de la máquina de recubrimiento de espumación de magnetrón de ultra-alto vacío son los siguientes:
l vacío final de la cámara de recubrimiento: ≤6×10-5Pa;
l tiempo de bombeo: Mejor que 6×10-4PA en 30 minutos;
l Tamaño de la cámara de vacío: 300×300×H350mm, la cámara de vacío está fabricada en acero inoxidable;
l Tamaño y cantidad objetivo: Objetivos magnéticos permanentes de 2 φ50mm;
l la distancia objetivo-sustrato es ajustable (40~100mm, ajustada por la posición objetivo);
l rotación del sustrato: Ajustable de 0 a 60 rpm; equipado con calefacción, puede calentarse hasta 500 grados;
l Tamaño de la máquina principal: Aproximadamente 1100mm de largo × 750mm de ancho × 1650mm de alto;
l Tipo de gas: MFC de 2 vías, gas de trabajo Ar+gas de reacción;
l medición del grosor de la película: Equipada con un juego de medidor de grosor de película de cristal de cuarzo y sonda original (opcional);
l sistema de control: Pantalla táctil + PLC para controlar el arranque y parada de bombas, válvulas y varias alarmas de salida;
l Grado de vacío final: ≤5×10-5Pa (obtenido en 12 horas en condiciones de limpieza + horneado y desgasificación);
l tiempo de vacío: En 40 minutos, ≤5×10-4PA;
l temperatura de calentamiento del sustrato: ≤600ºC (calentamiento de la lámpara de tungsteno de yodo);
l Tamaño del sustrato: ≤Φ3inch oblea redonda;
l Tamaño objetivo: 2 pulgadas o 3 pulgadas;
l número de objetivos: 4;
l Tamaño de la cámara de vacío: 500×500×H450 (puede ajustarse adecuadamente según las condiciones reales);
l distancia de movimiento de la gradilla de sustrato: ≤50mm (dirección axial);
l ángulo entre el eje objetivo y el eje de rotación del sustrato: Co-esputtering;
l sistema de gas: 4 tomas de aire, 1 de las cuales son para el escape;
l vacío final de la cámara de recubrimiento: ≤6×10-5Pa;
l tiempo de bombeo: Mejor que 8×10-4PA en 30 minutos;
l Tamaño de la cámara de vacío: 300mm×300mm×H400mm, la cámara de vacío está fabricada en acero inoxidable y equipada con una ventana de observación de vidrio;
l Tamaño y cantidad objetivo: Objetivos magnéticos permanentes de 2 φ50mm (integrados);
l Fuente de alimentación de pulverización: 2 500W fuentes de alimentación de CC digital;
l Control de presión, equipado con un medidor de película y una válvula de mariposa eléctrica para lograr un control de presión constante;
l distancia de movimiento horizontal 0~80mm, equipada con placa de aislamiento para evitar que caiga escoria durante el movimiento;
l sistema de prensado en caliente: Temperatura de calentamiento del sustrato inferior: 0~600ºC ajustable continuamente. La placa superior se controla neumáticamente para presionar hacia abajo;
l Tamaño de la unidad principal: Longitud 1060mm×ancho 600mm×altura 1600mm; (el tamaño se ajustará adecuadamente según las necesidades)
l Tipo de gas: Controlador de flujo de masa de 2 vías, entrada de aire de 2 vías;
Nuestra empresa puede ofrecer a los clientes soluciones de diseño de sistemas de recubrimiento de vacío diversificados, que pueden lograr de forma flexible la deposición de co-esputtering, la deposición de película multicapa, las películas aislantes y la preparación de películas compuestas, cumpliendo con los requisitos de preparación de películas en diversos campos. La máquina de recubrimiento por evaporación multifuncional desarrollada se utiliza ampliamente en la investigación y desarrollo de productos OLED y OPV. Sobre la base de la configuración estándar, nuestra empresa puede personalizar las máquinas de recubrimiento para propósitos específicos, instrumentos de recubrimiento portátiles, instrumentos de prueba y productos de vacío no estándar de acuerdo con las necesidades del cliente.
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Orientación remota:proporcionar asistencia técnica como teléfono y correo remotos; servicio in situ:proporcionar mantenimiento in situ, asistencia técnica y otros servicios;
Servicio de inspección:proporcionar visitas de retorno y servicios de inspección regulares;
Servicio de estancamiento: Proporcionar servicios de estancamiento a largo plazo necesarios para el proyecto.