1050 1060 1070 luz pura    Hoja de aluminio de plástico de peso             De aluminio de alta pureza sputtering meta 1. La tecnología de procesamiento: Fundición de vacío 2. Uniforme de aleación de oro grado:   Alta 3. La densidad: Alta 4. Pureza: ≥ 99.99-99.999% 5. Usos: Aleaciones de alta pureza se ha aplicado ampliamente en la profesión de la decoración, PVD, aeroespacial, de la capa de anti-corrosión, la membrana de la herramienta antifricción circuito integrado, pantalla, de la batería solar, los componentes ópticos de almacenamiento magnético, ...  6. Dimensión específica y la aleación componente puede ser suministrado por las necesidades del cliente. 7. Tamaño y calidad es de acuerdo a solicitud del cliente. Ventaja: 1. Alta calidad y precio competitivo. 2. La entrega oportuna. Si algún elemento que necesita, o cualquier sugerencia que usted, póngase en contacto con nosotros. Vuestra sincera investigaciones suelen ser respondidas dentro de 24 horas.   Los objetivos de sputtering estamos fabricando muestran un rendimiento excepcional en virtud de alta densidad, excelente la pureza, y distinguidos de la microestructura homogénea. Nuestros objetivos de sputtering consisten principalmente en metales puros y aleaciones, disponible tanto en plana y formas giratorio Los objetivos de Rhexon destacados: 1. Metal Puro: Ti, en el ZR, Ta, Nb, Mo, W, Ni, Cr, Al, Zn, IS, Cu, ITO, AZO. TZO, ASEO, Nb2O5, TiO2, SiO2 con        Tipo giratorio y planar, 2. aleación típico  objetivo  : 1) de Ti/al  objetivo de aleación  (67: 33, 50: 50en %) 2) W/    destino de aleación de Ti  (90: 10wt%), 3) Ni/V de la    meta  (aleación de 93: 7, wt%) 4) Ni/Cr de    destino    (aleación de 80: 20, 70: 30, wt%), 5)/rc de      destino  (aleación de 70: 30, 50: 50en %) 6) Nb/Zr      objetivo  (aleación de 97: 3, 90: 10wt% 7) Si/al    objetivo de aleación  (90: 10, 95: 5, 98: 2, 70: 30, wt%) 8) Zn/  aleación al. 9)Cr puro  objetivo  (99, 95%, el 99, 995%) 10)/rc de    destino (aleación de 70: 30, 50: 50, 15: 85, 67: 33, wt%y en %) 11) ni de aleación de cobre y el  destino  (70: 30, 80: 20, wt%) 12)Al/Nd    objetivo  (aleación de 98: 2wt%) 13)Mo/Nb de  destino  (aleación de 90: 10, wt%) 14)TiAlSi  Objetivo (aleación de Ti/Al/IE=30/60/10, 33/67, 40/50/10, wt% y en %) 15)  Aleación CrAlSi objetivo  (Cr/Al/IE=30/60/10, wt% y en%)y así sucesivamente, y ayudar a conjunto de material objetivo   Los objetivos de sputtering estamos fabricando muestran un rendimiento excepcional en virtud de alta densidad, excelente la pureza, y distinguidos de la microestructura homogénea. Nuestros objetivos de sputtering consisten principalmente en metales puros y aleaciones, disponible tanto en plana y formas giratorio Los objetivos de Rhexon destacados: 1. Metal Puro: Ti, en el ZR, Ta, Nb, Mo, W, Ni, Cr, Al, Zn, IS, Cu, ITO, AZO. TZO, ASEO, Nb2O5, TiO2, SiO2 con        Tipo giratorio y planar, 2. aleación típico  objetivo  : 1) de Ti/al  objetivo de aleación  (67: 33, 50: 50en %) 2) W/    destino de aleación de Ti  (90: 10wt%), 3) Ni/V de la    meta  (aleación de 93: 7, wt%) 4) Ni/Cr de    destino    (aleación de 80: 20, 70: 30, wt%), 5)/rc de      destino  (aleación de 70: 30, 50: 50en %) 6) Nb/Zr      objetivo  (aleación de 97: 3, 90: 10wt% 7) Si/al    objetivo de aleación  (90: 10, 95: 5, 98: 2, 70: 30, wt%) 8) Zn/  aleación al. 9)Cr puro  objetivo  (99, 95%, el 99, 995%) 10)/rc de    destino (aleación de 70: 30, 50: 50, 15: 85, 67: 33, wt%y en %) 11) ni de aleación de cobre y el  destino  (70: 30, 80: 20, wt%) 12)Al/Nd    objetivo  (aleación de 98: 2wt%) 13)Mo/Nb de  destino  (aleación de 90: 10, wt%) 14)TiAlSi  Objetivo (aleación de Ti/Al/IE=30/60/10, 33/67, 40/50/10, wt% y en %) 15)  Aleación CrAlSi objetivo  (Cr/Al/IE=30/60/10, wt% y en%)y así sucesivamente, y ayudar a conjunto de material objetivo